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中国科学院金属研究所专利：一种纳米叠层TiN梯度膜及其制备方法
中国科学院金属研究所 专利 纳米叠层 TiN梯度膜
2023/12/27
本发明涉及离子镀膜技术,具体为一种纳米叠层TiN梯度膜及其制备方法, 解决工作温度低于600℃,由高温合金制成的汽车发动机阀门、飞机叶片等零部 件的表面耐磨、耐腐蚀问题,以及常规TiN离子镀膜镀层易开裂问题。本发明利 用离子镀膜技术在高温合金表面上沉积纳米叠层TiN梯度膜。其制备方法：首先 除去合金表面上的油污,在有机溶剂中超声清洗；然后,将洗净的试样装卡在卡 具上并置入离子镀膜设备的真空室内,抽...
本发明涉及一种反应磁控溅射低温制备TiN薄膜的方法，通过对传统磁控溅射技术的改进，在真空室内引入一等离子体区域，采用中频脉冲直流或直流溅射溅射Ti金属靶，并控制工作气体压强、温度、时间、溅射功率等工艺条件，在衬底上沉积TiN薄膜。使用本方法可以在低温环境下性能良好的TiN薄膜，薄膜的结晶度、致密性及硬度得到提高，表面粗糙度小，薄膜与衬底有较高的结合力，很难产生局部脱落。本发明可以为硬质薄膜的实验研...