搜索结果: 1-1 共查到“光电子技术 TIN”相关记录1条 . 查询时间(0.093 秒)
采用预氮化+脉冲激光熔覆复合工艺在TC4钛合金表面成功地制备出了具有微纳尺度TiN增强的Ti-N复合涂层，并与传统激光氮化涂层对比研究了该涂层的组织特征和力学性能。结果表明，所获预氮化复合涂层由TiN相和α'马氏体组成，涂层硬度随引入的固态氮源N含量的增加逐渐增大。对比分析表明，该复合工艺所获涂层的硬度性能与传统激光气体氮化样品基本相当，而在深度方向上其强化效果的维持性更好，并基于数据拟合初步提出...
